Pa gen plak pwosesis

Vèsyon CTP gratis pou pwodui chimik refere a itilizasyon yon machin pou fè plak machin pou eskane ak imaj, ki te swiv pa rense ak trete ak dlo ki pa gen pwodui chimik.

Voye rechèch

Dekri teren

Kout entwodiksyon

Vèsyon CTP gratis pou pwodui chimik refere a itilizasyon yon machin pou fè plak machin pou eskane ak imaj, ki te swiv pa rense ak trete ak dlo ki pa gen pwodui chimik.

Lè sa a, materyèl la plak CTP enprime sou machin nan. Konnen tou kòm dlo devlope CTP vèsyon.

Youn nan teknik prensipal yo pou reyalize okenn teknoloji plak pwosesis se atravè itilizasyon twa metòd: cho boule-off, chanjman faz, ak pwosesis machin. Teknik sa yo ofri yon opsyon ki pi efikas ak zanmitay anviwònman an pou enprime.

Karakteristik pwodwi

Teknoloji ablasyon tèmik

Teknoloji cho boule-nan se yon pwosesis ki itilize lazè gwo pouvwa a pou abat kouch foto-sensib la, sa ki lakòz pòsyon limyè ki ekspoze a "boule" ak evapore, ekspoze baz aliminyòm idrofil la. Teknoloji sa a elimine nesesite pou pwosesis apre ekspoze epi li pwodui simagri ak pwopriyete distenk idrofil ak lwil ki atire.

Deskripsyon Product: Faz-chanje Teknoloji

Faz-chanje teknoloji sèvi ak dekapotab faz-chanje polymères nan kouch fotosensib la, ki gen gwoup fonksyonèl ki ka chanje soti nan oleophilic nan idrofil anba limyè oswa chalè. Atravè ekspoze, polymère a ka chanje pwòp pwopriyete oleofil oswa idrofil li yo, kidonk li ka reyalize objektif la nan transfòme pwopriyete lwil oliv-dlo nan kouch la san yo pa konte sou idrofilisite nan baz la plak aliminyòm.

Teknoloji pwosesis nan machin

Teknoloji pwosesis nan machin se yon sistèm ki sèvi ak yon kouch fòmil pou retire zòn ki pa imaj nan yon kouch fotosensib sou yon laprès enprime lè l sèvi avèk yon solisyon tranpaj, lank, oswa toude. Teknoloji sa a elimine nesesite pou nenpòt pwosesis devlopman adisyonèl, reyalize objektif la nan pwosesis san efò.

Espesifikasyon

Kalite Plak	Negatif-k ap travay, san pwosesis, plak tèmik
Aplikasyon	Komèsyal, jounal, travay enprime anbalaj ak sou sa
Baz	Electrochemically grenn ak anodize substra aliminyòm
Kalib	{{0}}.15mm, 0.20mm,0.24mm, 0.30mm ak 0.40mm
Koulè kouch	Vèt pal
Sansiblite spectral	800-850 nm
Ekspozisyon enèji	120 - 150 mJ/cm2 (ki baze sou anviwònman platesetter ak rezolisyon)
Rezolisyon	1% a 99% @ 200 lpi oswa 25 micron stochastic (ki baze sou anviwònman platesetter ak kapasite imaj)
Devlopè	Pa gen pwomotè
Longè kouri	Jiska 100,000 enpresyon (ki baze sou rezolisyon imaj, machin enprime, pwodui chimik, lank ak kondisyon papye)
Safelight	Limyè natirèl (<800 LUX)
Lavi etajè	12 mwa (fre-sèk depo,<35℃,40-80%humidity,away from sunlight)